હેલોજન અંગે નીચેનામાંથી ક્યું વિધાન સાચું છે?
Medium
Download our app for free and get started
a
$Cl_2$ કરતાં $F_2$ ની બંધ વિયોજન ઉષ્મા ઓછી છે તેનું કારણ પ્રબળ આંતર ઇલેક્ટ્રોનીક અપાકર્ષણ છે,
$Cl_2$ કરતાં $F_2$ ની બંધ વિયોજન ઉષ્મા ઓછી છે તેનું કારણ પ્રબળ આંતર ઇલેક્ટ્રોનીક અપાકર્ષણ છે,
Download our appand get started for free
Experience the future of education. Simply download our apps or reach out to us for more information. Let's shape the future of learning together!No signup needed.*
Similar Questions
- 1સલ્ફ્યુરિક એસિડની બનાવટની,કઈ પ્રક્રિયામાં ${V_2}{O_5}$નો ઉપયોગ થાય છે?View Solution
- 2ડાયનાઇટ્રોજન ટેટ્રોક્સાઇડ માં, $N_2O_4$View Solution
- 3View Solutionનીચેનામાંથી ક્યાં ઘટકમાં બંધ ખૂણો મહત્તમ છે?
- 4View Solutionઓસ્વાલ્ડ પ્રક્રિયા દ્વારા ઔદ્યોગિક રીતે નાઇટ્રીક એસિડની બનાવટમાં નીચેનામાંથી શાનો ઉપયોગ થાય છે?
- 5નાઇટ્રોજન સમૂહમાં $N$ થી $Sb$ તરફ જતા હાઇડ્રાઇડમાંનો $H - M - H$ બંધકોણ $90^o$ ની નજીકનો બનતો જાય છે, કારણ કે ......View Solution
- 6View Solutionનીચેનામાંથી કયું વિધાન ખોટું છે?
- 7${O_2}{F_2}$ નો આકાર કોના જેવો જ છેView Solution
- 8View Solutionવાતાવરણમાં નીચેનામાંથી કયો ઉમદા વાયુ હાજર હોતો નથી?
- 9View Solutionનીચેનામાંથી કયા બંધમાં સૌથી વધુ ઊર્જા છે?
- 10View Solutionનીચેનામાંથી આંતરહેલોજન સંયોજનનોની લાક્ષણિકતા કઇ નથી ?