$(i) XeO_3$ $(ii) XeOF_4$ $(ii) XeF_6$ ઉપરોક્ત અણુઓમાં, $Xe$ માં સમાં સંખ્યાના અબંધકારક ઈલેક્ટ્રોન યુગ્મ હોય તે કયા છે?
Easy
Download our app for free and get started
d
| સંયોજન | સંકરણ | બંધ જોડ | લોન પેર |
| \(XeO_3\) | \(sp^3\) | \(3\) | \(1\) |
| \(XeOF_4\) | \(sp^3d^2\) | \(5\) | \(1\) |
| \(XeF_6\) | \(sp^3d^3\) | \(6\) | \(1\) |
Download our appand get started for free
Experience the future of education. Simply download our apps or reach out to us for more information. Let's shape the future of learning together!No signup needed.*
Similar Questions
- 1નીચે બે વિધાનો આપેલા છે. એકને કથન $A$ તરીકે અને બીજાને કારણ $R$ તરીકે લેબલ કરેલ છે.View Solution
કથન $A$ : ફ્લોરિન એક ઓક્સોએસિડ બનાવે છે.
કારણ $R$ : બધા હેલોજનોમાં ફ્લોરિન સૌથી નાનુ કદ ધરાવ છે અને તે સૌથી વિદ્યુત ઋણમય છે.
ઉપરોક્ત વિધાનોના સંદર્ભ નીચે આપેલામાંથી યોગ્ય વિકલ્પ પસંદ કરો.
- 2View Solutionઅન્ય હાઇડ્રોજન હેલાઇડ થી વિરૂદ્ધ હાઇડ્રોજન ફ્લોરાઇડ પ્રવાહી છે તેનું કારણ
- 3View Solutionઆપેલ અણુઓમાં બંધકોણનો સાચો કમ ક્યો છે?
- 4View Solutionનીચેનામાંથી કયા ઉમદા વાયુના બાહ્યતમ કોશમાં ઈલેક્ટ્રોન્સની અષ્ટક રચના પૂર્ણ નથી?
- 5View Solutionઓરડાના તાપમાને સલ્ફરનું સ્થાયી સ્ફટિકમય સ્વરૂપ ક્યું છે?
- 6નીચેના કયા સંયોજનોમાંથી હાઇડ્રોલિસિસ અનુક્રમે $S_{N^1}$ અને $S_{N^2}$ પદ્ધતિ દ્વારા થાય છેView Solution
- 7નીચે બે વિધાનો આપેલાં છે એકને કથન $A$ વડે લેબલ કરેલ છે અને બીજાને કારણ $R$ વડે લેબલ કરેલ છે.View Solution
કથન $A$ : નિમજ્જન સાધન (diving apparatus)માં હિલિયમનો ઉપયોગ ઑક્સિજન મંદક તરીકે ઉપયોગી છે.
કારણ $R$ : હિલિયમ $O _2$ માં ઊંચી (વધુ) દ્રાવ્યતા ધરાવે છે.
ઉપરનાં વિધાનોના સંદર્ભમાં, નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો જવાબ પસંદ કરો :
- 8હાઈડ્રોજન હેલાઈડના ઉત્કલનબિંદુના ફેરફારનો ક્રમ $HF > HI > HBr > HCl$ છે. હાઈડ્રોજન ફ્લોરાઈડનુ ઊંચું ઉત્કલનબિંદુ શાના વડે સમજાવી શકાય છે ?View Solution
- 9$SO_3, S_2O_3^{-2}, S_2O_6^{-2}$ અને $S_2O_8^{-2}$ માં $S-S$ બંધની સંખ્યા અનુક્રમે જણાવો.View Solution
- 10$HCl, HBr$ અને $HI$ ક્રમ માં ઉત્કલન બિંદુ વધે છે $HCl < HBr < HI$ આ કોના કારણે છે ?View Solution