$HCl$ અણુમાં બંધનનો પ્રકાર નીચેનામાંથી ક્યો છે?
Medium
Download our app for free and get started
b
\(HCl\) અણુ ધ્રુવીય સહસંયોજક તેનું કારણ \(H\) અને \(Cl\) વચ્ચેની વિદ્યુતઋણતાનો તફાવત છે.
\(HCl\) અણુ ધ્રુવીય સહસંયોજક તેનું કારણ \(H\) અને \(Cl\) વચ્ચેની વિદ્યુતઋણતાનો તફાવત છે.
Download our appand get started for free
Experience the future of education. Simply download our apps or reach out to us for more information. Let's shape the future of learning together!No signup needed.*
Similar Questions
- 1View Solutionનીચેનામાંથી કયા અણુ/આયનમાં બધા જ બંધ સરખા નથી?
- 2$Xe{F_2},\,Xe{F_4}$ અને $Xe{F_6}$ અણુઓમાં પરમાણુ ઉપર અબંધકારક ઈલેક્ટ્રોન યુગ્મોની સંખ્યા અનુક્રમે કેટલી હોય છે?View Solution
- 3View Solutionનીચેનામાંથી કોણ ઓક્સિડેશનકર્તા અને રિડક્શનકર્તા એમ બંને તરીકે વર્તે છે ?
- 4નીચે બે વિધાનો આપેલા છે : એકને કથન $A$ વડે લેબલ કરેલ છે જ્યારે બીજાને કારણ $R$ વડે લેબલ કરેલ છે.View Solution
કથન $A :$ દ્વિધુવ-દ્વિધ્રુવ આંતરક્રિયાઓ જ ફકત અ-સહસંયોજક આંતરક્રિયાઓ, જે હાઈડ્રોજન
બંધના સર્જનમાં પરિણમે છે.કારણ $R :$ ફ્લોરીન એ સૌથી વધારે વિદ્યુત ઋણમય તત્વ છે અને $HF$ માં હાઈડ્રોજન બંધો સંમિત (symmetrical) છે.
ઉપરનાં વિધાનોનાં સંદર્ભમાં, નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો ઉત્તર પસંદ કરો.
- 5સમૂહ $- I$ (પદાર્થો) ને સમૂહ $- II$ (પદ્ધતિઓ) ને યોગ્ય જોડીમાં ગોઠવો કે જે પદાર્થોની બનાવટમાં ઉપયોગમાં લેવાયા હોય.View Solution
સમૂહ $-I$ (પદાથ્રો) સમૂહ$ -II$ પદ્ધતિ $(a)$ સલ્ફ્યુરિક એસિડ $(b)$ સ્ટીલ
$(c)$ સોડિયમ હાઇડ્રોકસાઇડ $(d)$
એમોનિયા
$i$ હેબર પદ્ધતિ $ii$
બેસમર્સ પદ્ધતિ $iii$ લેબ્લેન્ક
પદ્ધતિ $iv$ સંપર્ક પદ્ધતિ
$a - b - c - d$
- 6View Solutionસલ્ફરની ઇલેક્ટ્રોન એફીનીટી........
- 7View Solutionનીચેનામાંથી કયા સંયોજનના મધ્યસ્થ પરમાણુ પાસે મહત્તમ સંખ્યાનો લોન પેર હશે?
- 8ખાંડની સાંદ્ર $HNO_3$ સાથેની પ્રક્રિયાથી .... મળે છે.View Solution
- 9View Solutionઉમદા વાયુઓ એ એવા તત્ત્વોનો સમૂહ છે કે જે નીચેનામાંથી શું દર્શાવે છે?
- 10View Solutionનીચેનામાંથી ક્યા પ્રક્રિયક સાથે એમોનિયાની પ્રક્રિયાથી બ્રાઉન અવક્ષેપ મળે છે?