નાઇટ્રોજન અને ઓક્સિજન પરમાણુઓની પ્રથમ આયનિકરણ પોેટેન્શિયલ ઇલેક્ટ્રોન વોલ્ટમાં અનુક્રમે નીચેનામાંથી કઇ દર્શાવાય છે?
Easy
Download our app for free and get started
a
સ્થાયી અર્ધપૂર્ણ ઇલેક્ટ્રોન રચનાને કારણે નાઇટ્રોજનની આયનિક પોટેન્શિયલ વધારે હોય છે.
સ્થાયી અર્ધપૂર્ણ ઇલેક્ટ્રોન રચનાને કારણે નાઇટ્રોજનની આયનિક પોટેન્શિયલ વધારે હોય છે.
Download our appand get started for free
Experience the future of education. Simply download our apps or reach out to us for more information. Let's shape the future of learning together!No signup needed.*
Similar Questions
- 1$NO$ અણુ,View Solution
- 2નીચે બે વિધાનો આપેલા છે :View Solution
વિધાન $I :$ $\mathrm{HF}<\mathrm{HCl}<<\mathrm{HBr}<<\mathrm{HI}$ આપેલ ક્રમ પ્રમાણમાં એસિડ સામર્થ્ય વધે છે.
વિધાન $II :$ સમૂહમાં નીચે જઈએ ત્યારે $\mathrm{F}, \mathrm{Cl}, \mathrm{Br}, \mathrm{I}$ તત્વોનું કદ વધે છે, $\mathrm{HF}, HCl, HBr$ અને $HI$નું બંધ સામર્થ્ય ઘટે છે અને તેથી એસિડ સામર્થ્ય વધે છે.
ઉપરનાં વિધાનોને ધ્યાનમાં રાખી, નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો જવાબ પસંદ કરો.
- 3View Solutionઅપેક્ષિત તત્ત્વ કે જે નિકટતમ ઉમદા વાયુ સંરચના મેળવવા સૌથી મોટો આયન બનાવે છે તે શોધો.
- 4View Solutionજ્યારે ફોસ્ફિન વાયુનુ ક્લોરીન વાયુ સાથે મિશ્ર કરવામાં આવે ત્યારે શુ બનાવવાની અપેક્ષા રાખી શકાય ?
- 5View Solutionપ્રવાહી એમોનિયામાં સોડિયમનું દ્રાવણ વાદળી હોવાનું કારણ.....
- 6View Solutionનીચેના પૈકી ક્યા ગ્રીન હાઉસ વાયુઓનો સમૂહ છે ?
- 7View Solutionઉમદા વાયુ પરમાણુઓ વચ્ચે લાગુ પડતું / અસરકારક બળ નીચેનામાંથી કયું છે?
- 8$XeF_2$ અને $XeF_6$ અલગથી હાઇડ્રોલાઇઝ્ડ છે પછી ॥View Solution
- 9નીચે આપેલા સલ્ફર આધારીત ઓક્સો એસિડને ધારી લો.$H _2 SO _3, H _2 SO _4, H _2 S _2 O _8$ અને $H _2 S _2 O _7$ ઉપરના ઓક્સો એસિડો પૈકી કે જેમાં પેરોકસી $(O-O)$ બંધની સંખ્યા $.......$ છે.View Solution
- 10ઓરડાના તાપમાન પર $ClF _5$ શું છે ?View Solution