નીચે બે વિધાનો આપેલાં છે એકને કથન $A$ વડે લેબલ કરેલ છે અને બીજાને કારણ $R$ વડે લેબલ કરેલ છે.
કથન $A$ : નિમજ્જન સાધન (diving apparatus)માં હિલિયમનો ઉપયોગ ઑક્સિજન મંદક તરીકે ઉપયોગી છે.
કારણ $R$ : હિલિયમ $O _2$ માં ઊંચી (વધુ) દ્રાવ્યતા ધરાવે છે.
ઉપરનાં વિધાનોના સંદર્ભમાં, નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો જવાબ પસંદ કરો :
NEET 2023, Diffcult
Download our app for free and get started
d
Helium is used as diluent for oxygen in modern diving apparatus because of its very low solubility in blood.
Helium is used as diluent for oxygen in modern diving apparatus because of its very low solubility in blood.
Gases diffuses easily with each other.
Download our appand get started for free
Experience the future of education. Simply download our apps or reach out to us for more information. Let's shape the future of learning together!No signup needed.*
Similar Questions
- 1સમચોરસ પિરામીડલ બંધારણ ધરાવતા નીચે આપેલામાંથી આંતરહેલોજનોની સંખ્યા શોઘો.View Solution
$ClF _{3}, IF _{7}, BrF _{5^{2}}, BrF _{3}, I _{2} Cl _{6^{\prime}} IF _{5}, ClF , ClF _{5}$
- 2View Solutionનીચેનામાંથી ક્યુ અનુચુંબકીય છે અને તેના બંધારણમાં ત્રણ ઇલેક્ટ્રોનનો બંધ ધરાવે છે ?
- 3$SO_2$ ની બ્લીચીંગ કિયા ......... ને લીધે છે.View Solution
- 4નીચેનામાંથી કોણ સૌથી વધુ $P- H$ બંધ ધરાવે છે ?View Solution
- 5View Solutionનીચેનામાંથી કયો સૌથી વધારે બેઝિક ઓકસાઇડ છે?
- 6નીચેનામાંથી કયા ઍસિડ માં $P-P$ બંધ હાજર છે ?View Solution
- 7View Solutionઉષ્માગતિકીય રીતે ક્યો ફોસ્ફરસ સૌથી વધુ સ્થાયી છે ?
- 8$XeF _4$ નું સંપૂર્ણ જળવિભાજન કરતાં બનતી $Xe$ ની ઓકિસડાઈઝ નીપજ અને $XeF _4$ વચ્ચે $Xe$ ના ઓકિસડેશન અવસ્થામાં તફાવત $........$ છે.View Solution
- 9$XeO{F_4}$ માં કુલ અબંધ કારક ઇલેક્ટ્રોન યુગ્મની સંખ્યા કેટલી છે ?View Solution
- 10View Solutionસફેદ અને લાલ ફૉસ્ફરસ માટે નીચેના પૈકી દરેક સાચુ છે, સિવાય કે તેઓ ...........