Download our appand get started for free
Experience the future of education. Simply download our apps or reach out to us for more information. Let's shape the future of learning together!No signup needed.*
જો $R = -CH_2C_6H_5$ તો $(Phe)$
એ ફિનાઇલ એલેનીન અને જો $R = CH_3$ તો તે એલેનાઇન $(Ala)$.
આપેલા સંશ્લેષણ $Phe- Ala$ માટે નીચે આપેલા પ્રક્રિયકનો ક્રમ શોધો
$(1)$ $\begin{matrix}
C{{H}_{3}} \\
|\,\,\,\,\,\, \\
ZNH\,C\,HC{{O}_{2}}H \\
\end{matrix}$ $(2)$ $\begin{matrix}
C{{H}_{3}}\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\, \\
|\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\, \\
{{H}_{2}}N\,C\,HC{{O}_{2}}C{{H}_{2}}{{C}_{6}}{{H}_{5}} \\
\end{matrix}$
$(3)$ $\begin{matrix}
\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,C{{H}_{3}}{{C}_{6}}{{H}_{5}} \\
|\,\,\,\,\, \\
ZNH\,C\,HC{{O}_{2}}H \\
\end{matrix}$ $(4)$ $\begin{matrix}
C{{H}_{2}}{{C}_{6}}{{H}_{5}}\,\,\,\,\, \\
|\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\,\, \\
{{H}_{2}}N\,CHC{{O}_{2}}C{{H}_{2}}{{C}_{6}}{{H}_{5}} \\
\end{matrix}$
વિધાન $I$ : સમૂહ $16$ તત્વોના હાઈડ્રાઈડોના ઉત્કલન બિદુુ આ ક્રમમાં અનુસરે છે. $\mathrm{H}_2 \mathrm{O}>\mathrm{H}_2 \mathrm{Te}>\mathrm{H}_2 \mathrm{Se}>\mathrm{H}_2 \mathrm{~S}$.
વિધાન $II$ : આણ્વિય દળના આધારે, સમૂહના બીજા સભ્યો કરતાં $\mathrm{H}_2 \mathrm{O}$ નું નીચું ઉત્કલન બિંદુ અપેક્ષિત છે, પણ $\mathrm{H}_2 \mathrm{O}$ મા માત્રાત્મક $H-$ બંધનને કારણે તે ઉંચુ ઉત્કલન બિંદુ ધરાવે છે. ઉપ૨નાં વિધાનોના સંદર્ભમાં નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો જવાબ પસંદ કરો.
| સૂચી $-I$ (સલ્ફરના ઓકસોએસિડ) | સૂચી $-II$ (બંધો) |
| $A$. પેરોક્સોડાયસલ્ફ્યુરિક એસિડ | $I$. બે $S - OH$, ચાર $S = O$, એક $S - O - S$ |
| $B$. સલ્ફ્યુરિક એસિડ | $II$. બે $S - OH$,એક $S = O$ |
| $C$. પાયરોસલ્ફ્યુરિક એસિડ | $III$. બે $S - OH$, ચાર $S = O$, એક $S - O - O - S$ |
| $D$. સલ્ફ્યુરસ એસિડ | $IV$. બે $S - OH$,બે $S = O$ |
નીચે આપેલા વિકલ્પોમાથી સાચો જવાબ પસંદ કરો:
કથન $A$ : નિમજ્જન સાધન (diving apparatus)માં હિલિયમનો ઉપયોગ ઑક્સિજન મંદક તરીકે ઉપયોગી છે.
કારણ $R$ : હિલિયમ $O _2$ માં ઊંચી (વધુ) દ્રાવ્યતા ધરાવે છે.
ઉપરનાં વિધાનોના સંદર્ભમાં, નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો જવાબ પસંદ કરો :
કથન $A:$ પ્રવાહી એમોનિયામાં ધાત્વિક સોડિયમને આગાળતા ગાઢું ભૂરું દ્રાવણ આપે છે કે જે અનુચુંબકીય છે.
કારણ $R$ : એમાઈડના બનવાના કારણે ગાઢું ભૂંરૂ દ્રાવણ છે.
ઉ૫રનાં વિધાનોના સંદર્ભમાં,નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો જવાબ પસંદ કરો :
વિધાન $I :$ મોનોવિસ્થાપિત નાઈટ્રોફિનોલનું એસિડીક સામર્થ્ય એ ફીનોલ કરતા ખૂબ જ વધારે હોય છે કારણ કે ઈલેક્ટ્રોન આકર્ષક (ખેંચનાર) નાઈટ્રો સમૂહ
$H _{2} O\, <\, H _{2} S \,<\, H _{2} Se\, < \,H _{2} Te$
વિધાન $II :$ ફિનોલીક ચક્રમાં એક નાઈટ્રો સમૂહ જોડાવાને કારણે $o-$નાઈટ્રોફિનોલ, $m$-નાઈટ્રોફિનોલ અને $p-$નાઈટ્રોફિનોલ એ સમાન એસિડીક સામર્થ્ય ધરાવે છે.
ઉપરના વિધાનોના સંદર્ભમાં નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સૌથી વધુ બંધબેસતો જવાબ પસંદ કરો.
વિધાન $I :$ સમૂહ $16$ તત્વોના નીચે આપેલા હાઈડ્રાઈડોના ઉત્કલનબિંદુ ક્રમમાં વધે છે તે.
$H _{2} O < H _{2} S < H _{2} Se < H _{2} Te$
વિધાન $II :$ આ હાઈડ્રાઈડોના ઉત્કલનબિંદુ મોલર દળ વધવાની સાથે વધે છે.
ઉપરના વિધાનોના સંદર્ભમાં નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સૌથી વધુ બંધબેસતો જવાબ પસંદ કરો.
કથન $(A):$ $ICl$ એ $I _{2}$ કરતા વધારે સક્રિય (reactive) છે.
કારણ $(R):$ $I-Cl$ બંધ એ $I-I$ બંધ કરતા નિર્બળ છે.
ઉપરનાં વિધાનોનાં સંદર્ભમાં નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સૌથી વધુ બંધબેસતો જવાબ પસંદ કરો :
વિધાન $I :$ $\mathrm{HF}<\mathrm{HCl}<<\mathrm{HBr}<<\mathrm{HI}$ આપેલ ક્રમ પ્રમાણમાં એસિડ સામર્થ્ય વધે છે.
વિધાન $II :$ સમૂહમાં નીચે જઈએ ત્યારે $\mathrm{F}, \mathrm{Cl}, \mathrm{Br}, \mathrm{I}$ તત્વોનું કદ વધે છે, $\mathrm{HF}, HCl, HBr$ અને $HI$નું બંધ સામર્થ્ય ઘટે છે અને તેથી એસિડ સામર્થ્ય વધે છે.
ઉપરનાં વિધાનોને ધ્યાનમાં રાખી, નીચે આપેલા વિકલ્પોમાંથી સાચો જવાબ પસંદ કરો.
| સ્તંભ $A$ | સ્તંભ $B$ |
| $(i) \;\mathrm{Na}_{2} \mathrm{O}$ | $(a)$ તટસ્થ |
| $(ii) \;\mathrm{Al}_{2} \mathrm{O}_{3}$ | $(b)$ બેઝિક |
| $(iii)\;\mathrm{N}_{2} \mathrm{O}$ | $(c)$ એસિડિક |
| $(iv)\;\mathrm{Cl}_{2} \mathrm{O}_{7}$ | $(d)$ ઉભયગુણી |
| (a) શુદ્ધ નાઇટ્રોજન | (i) ક્લોરિન |
| (b) હેબર પદ્ધતિ | (ii) સક્યુરિક એસિડ |
| (c) સંપર્ક પદ્ધતિ | (iii) એમોનિયા |
| (d)
ડેકોન (Deacon's) પદ્ધતિ |
(iv) સોડિયમ એઝાઇડ અથવા બેરીયમ એઝાઇડ |
નીચે આપેલામાંથી કયો એક સાચો વિકલ્પ છે ?
$(a)\quad (b)\quad (c) \quad (d)$
| સ્તંભ$-I$ | સ્તંભ$-II$ |
| $(a)$ $\mathrm{XeF}_{4}$ | $(i)$ પિરામિડલ |
| $(b)$ $\mathrm{XeF}_{6} $ | $(ii)$ સમતલીય સમચોરસ |
| $(c)$ $\mathrm{XeOF}_{4}$ | $(iii)$ વિકૃત અષ્ટફલક |
| $(d)$ $\mathrm{XeO}_{3} $ | $(iv)$ સમચોરસ પિરમિડલ |
કોડ : $(a) \quad (b)\quad (c) \quad (d)$
$CN^+, CN^-, NO$ અને $CN$
આમાંથી કયામાં સૌથી વધુ બોન્ડ ક્રમ હશે?
| Column $I$ | Column $II$ |
| $(A) \,XX '$ | $(i)$ $T-$ આકાર |
| $(B)\,XX'_3$ | $(ii)$ પંચકોણીય દ્વિપિરામિડ |
| $(C)\,XX '_5$ | $(iii)$ રેખીય |
| $(D)\,XX '_7$ | $(iv)$ સમચોરસ પિરામિડ |
| $(v)$ સમચતુષ્ફલકીય |
| સૂચી$- I$ | સૂચી$- II$ |
| $1. XeF_6$ | $(i)$ વિકૃત અષ્ટફલક |
| $2. XeO_3$ | $(ii)$ સમતલીય સમચોરસ |
| $3. XeOF_4$ | $(iii)$ પિરામિડલ |
| $4. XeF_4$ | $(iv)$ સમચોરસ પિરામિડલ |
આપેલ પ્રક્રિયા માટે નીચેનામાંથી શું સાચું છે?